光刻机（Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。那么网友们知道光刻机有什么分类吗。来源：yuexw.com
1. 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
2. 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
3. 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
4. 自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。